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真空充氮烤箱用于電子芯片

發(fā)布時(shí)間:2023-07-07 09:44:25   點(diǎn)擊次數(shù):
真空充氮烤箱用于電子芯片  真空充氮烤箱用于電子芯片好處
真空充氮烤箱是一種用于電子芯片制造的設(shè)備,它的主要功能是通過(guò)創(chuàng)建真空環(huán)境和注入氮?dú)鈦?lái)控制熱處理過(guò)程中的氧氣和濕氣含量。這種烤箱可以有效地保護(hù)電子芯片免受氧化和濕氣影響,提高芯片的質(zhì)量和可靠性。真空充氮烤箱的操作原理是在烘烤過(guò)程中將烤箱內(nèi)部壓力降至非常低的水平,通常在幾百帕以下,以創(chuàng)建真空環(huán)境。然后通過(guò)注入氮?dú)鈦?lái)取代真空環(huán)境中的空氣,以降低氧氣和濕氣的含量。這樣可以有效地減少氧化反應(yīng)和水分對(duì)芯片的影響,提高芯片的穩(wěn)定性和可靠性。
真空充氮烤箱通常采用高溫加熱方式,通過(guò)控制溫度和時(shí)間來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)電子芯片的熱處理。在烤箱內(nèi)部,芯片會(huì)暴露在高溫環(huán)境下,以實(shí)現(xiàn)特定的熱處理效果,如退火、熱氧化、熱硬化等。真空環(huán)境和氮?dú)庾⑷肟梢杂行У乜刂茻崽幚磉^(guò)程中的氧氣和濕氣含量,從而提高芯片的品質(zhì)和性能。
總的來(lái)說(shuō),真空充氮烤箱在電子芯片制造中扮演著重要的角色,通過(guò)控制熱處理過(guò)程中的氧氣和濕氣含量,可以提高芯片的質(zhì)量和可靠性,同時(shí)減少氧化和濕氣對(duì)芯片的影響。這種設(shè)備在電子行業(yè)中被廣泛應(yīng)用,并對(duì)電子產(chǎn)品的性能和壽命提供了重要支持。                                                                                                                                                   一、用途簡(jiǎn)介:
    真空充氮烤箱適用于光電、硅晶片、電子芯片、電池、線路板、電子電器、金屬加工、制藥等各行業(yè)作無(wú)氧真空快速干燥、退火等高溫處理,可充惰性氣體防止產(chǎn)品氧化。深受生產(chǎn)線、實(shí)驗(yàn)室及科研單位喜愛(ài)。
二、主要技術(shù)指標(biāo):
規(guī)格型號(hào): HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000
內(nèi)箱尺寸(cm): 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100
外形尺寸(cm): 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188
總功率: 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW
使用電源: AC 單相 三線 220V 50HZ AC 三相 五線 380V 50HZ
溫度偏差: ±3% ±5% ±8%
真空泵: 4升 8升
溫度范圍(選擇):
□ RT+10℃~200℃
□ RT+10℃~250℃
□ RT+20℃~300℃
真空度范圍: 0~-100KPa
控制方式: 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制
結(jié)構(gòu): 一體式結(jié)構(gòu)(內(nèi)置真空泵)或分體式(外置真空泵)
內(nèi)箱材質(zhì): SUS304#不銹鋼
外箱材質(zhì): SECC鋼板高級(jí)烤漆處理
充氮?dú)庋b置: 1)氮?dú)鈮毫Ψ秶?~4Kg左右;
2)流量計(jì):量程為10L/min-100Lmin;
3)氣管配置:∮8mm氣管快插口;
4)充氮控制方式:采用時(shí)間自動(dòng)控制或手動(dòng)控制;
5)排氣閥:充氮?dú)獾耐瑫r(shí)打開(kāi)排氣閥,防止箱內(nèi)高壓;
6)氮?dú)猓旱獨(dú)庠从脩糇詡?br /> 真空充氮烤箱對(duì)于電子芯片制造有以下幾個(gè)好處:1. 氧化保護(hù):真空充氮烤箱可以創(chuàng)建一個(gè)幾乎沒(méi)有氧氣的環(huán)境,有效地避免芯片在高溫下氧化反應(yīng)。氧化反應(yīng)會(huì)導(dǎo)致芯片的性能下降甚至失效,使用真空充氮烤箱可以大大減少氧化帶來(lái)的問(wèn)題,提高芯片的品質(zhì)和可靠性。
2. 濕氣控制:真空充氮烤箱通過(guò)注入氮?dú)猓梢杂行У亟档秃婵具^(guò)程中的濕氣含量。濕氣會(huì)導(dǎo)致芯片內(nèi)部的金屬腐蝕和電性能下降,使用真空充氮烤箱可以減少濕氣對(duì)芯片的影響,提高芯片的穩(wěn)定性和可靠性。
3. 溫度控制:真空充氮烤箱可以精確控制熱處理過(guò)程中的溫度,確保芯片在特定的溫度下進(jìn)行熱處理。溫度控制的準(zhǔn)確性對(duì)于芯片的性能和可靠性至關(guān)重要,真空充氮烤箱能夠提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境,確保芯片的熱處理效果符合要求。
4. 芯片質(zhì)量提升:通過(guò)使用真空充氮烤箱,可以減少芯片的氧化和濕氣問(wèn)題,提高芯片的質(zhì)量和可靠性。良好的芯片質(zhì)量可以提升產(chǎn)品的性能和壽命,降低故障率,從而提高整體的產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。
綜上所述,真空充氮烤箱在電子芯片制造中具有重要作用,通過(guò)氧化保護(hù)、濕氣控制、溫度控制等方面的優(yōu)勢(shì),能夠提高芯片的品質(zhì)和可靠性,為電子產(chǎn)品的性能提供重要支持。
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